高级氧化技术原理
思普润HYRASAOR (Hydroxyl Radical Special Advanced Oxidation Reactor)高级氧化体系，通过UV光催化臭氧并在H2O2的协同作用下高效产生强氧化性·OH自由基，从而实现难降解有机污染物断链、开环，形成小分子有机物，并最终矿化为CO2和H2O。
工艺结合了O3高吸光系数（λ=254nm，ε=3300M-1cm-1）、H2O2高溶解性以及O3与HO2-高反应速率（O3与H2O2的反应速率一般<0.01 M-1s-1，而O3与HO2-反应速率高达5.5×106 M-1s-1），多通路、高效率产生具有强氧化性•OH。
•OH高效产生机理：
•OH氧化还原电位2.8V，氧化性极强，可高效且无选择性进行有机污染物分解；
污染物氧化分解机理：
高级氧化技术性能指标
1. O/C：臭氧投加量和水中化学需氧量去除量的质量比值，一般1.0~1.5；
2. 臭氧利用率逾95%，污染物去除率：50%~80%;
3. 难生化废水预氧化处理，B/C提高50%；
4. 常规系统应用停留时间30-90min;
5. 市政废水提标，准III达标排放，COD≤20mg/L；
6. 工业废水治理，准IV达标排放，COD≤30mg/L；
7. 饮用水除臭去味，微量污染物ng/L级供水；
高级氧化技术优势
1. 高效氧化（排放标准高）：O3在紫外光催化及H2O2协同作用下可高效产生强氧化性·OH自由基，氧化性能强、反应速率快，无选择性；
2. 清洁生产（生产绿色化）：UV、H2O2催化剂均为工业通用产品，无催化剂失活、污泥处理处置之虞，符合清洁生产要求；
3. 工艺灵活（应用范围广）：根据不同的水质情况和应用场景，可以采用O3/H2O2/UV、O3/H2O2、UV/H2O2 、UV/O3等不同工艺组合；
4. 运维简便（投资运行省）：工艺各单元配套流量计、UV强度、氧化剂浓度等检测仪表实现系统运行工况实时检测，并结合水厂在线检测仪，实时了解系统各级及总体运行工况，通过闭环控制及时调整工艺运行传参数。整个系统自动运行，无反洗、排泥等附属设备，且无需人工配药等，运行维护方便。单元产品装备化，投资成本低；
5. 抗冲击性强（稳定性能强）：可进行多级反应设计，O3、UV、H2O2各系统氧化剂投加量灵活可调，提高系统抗水量、水质冲击性能。
高级氧化技术支撑行业技术对比分析
高级氧化系统组成
O3/H2O2/UV系统主要由接触反应池、臭氧单元、UV催化单元、H2O2协同催化单元、闭环控制单元五部分组成。
1. 紫外催化反应器
① CFD仿真模拟优化催化装置设计，减少死角、强化工艺性能；
② 催化装置模块化生产、安装，检修维护便捷，无需停产；
③ 反应器自动清洗，清洗过程平稳、均匀；
④ SS316L/双相钢2205+PTFE材质，适用大部分工业废水环境。
2. 镇流器控制柜
① 供电单元、镇流器单元、控制单元分隔设计，无电气干扰；
② 工业空调及独立风扇冷却，镇流器输出效率98%以上；
③ SS304、IP55柜体，适用大部分工业场景；
④ PLC进行单只灯、单套催化模块运行、报警控制，实现高级氧化系统联动控制；
